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常壓等離子體裝置原理

更新時間：2024-08-19      瀏覽次數(shù)：430

大氣壓等離子體設(shè)備利用高頻脈沖電源產(chǎn)生等離子體放電，等離子體中存在的電子、離子等活性物種進行表面改性和清洗。


等離子體是物質(zhì)的第四態(tài)，是一種高能狀態(tài)，在等離子體中會發(fā)生電子從原子中跳出的電離現(xiàn)象，因此電子和剩余的離子共存，但總體上電荷分布保持在中等狀態(tài)。性別。


在常壓等離子設(shè)備中，等離子體中存在的活性物質(zhì)會在表面引起化學反應，從而可以對表面進行改性和清潔。例如，當產(chǎn)生氧等離子體時，它與構(gòu)成樹脂的碳原子結(jié)合并以CO 2 的形式從表面解吸。通過利用這種化學反應，可以對樹脂、薄膜和聚合物材料的表面進行清潔和改性。


大氣壓等離子體設(shè)備還用于制造半導體、電子元件、塑料和玻璃制品。利用等離子體反應進行表面清潔和改變聚合物表面的成分有望提高親水性并增強粘合強度。常壓等離子體設(shè)備是一種低溫等離子體，與處于高溫狀態(tài)的熱等離子體相比，可以在相對較低的溫度下產(chǎn)生等離子體，并且可以利用高頻脈沖電源產(chǎn)生等離子體。


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